日本特許庁 南アフリカ企業・知的財産委員会(CIPC)及びエジプト知的財産庁(EGIPA)と長官級会談を実施した

日付:2025-09-03

出所:日本特許庁

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分野:特许


国/地域:エジプト,南アフリカ,日本

公開日付:2025-09-03

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 8月20日(水曜日)、第9回アフリカ開発会議(TICAD9)に合わせて訪日した南アフリカ企業・知的財産委員会(CIPC)のボラー長官及びエジプト知的財産庁(EGIPA)のアズミー議長が日本国特許庁(JPO)を訪問し、河西長官と会談を実施したという。


 南アフリカでは特許の実体審査導入に向けた法改正が議論されており、エジプトでは昨年複数に分かれていた知財担当部局を統合する組織再編が行われ、新たに知的財産庁が設立されたところ、会談では両庁の最新動向が紹介されたほか、JPOと両庁の協力関係をさらに深化させていくことを確認した。